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【派遣】AutoCAD, SolidWorksを使用した光学メカ設計／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 光学検査装置の光学メカ設計を中心とする精密メカ設計業務。
【派遣】半導体検査装置の検査ソフトウェア設計・開発／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 電子線検査装置の検査ソフトウエア設計・開発業務。
- 電子線検査画像の画像処理、及び欠陥検出アルゴリズム開発業務も行います。
【派遣】電子光学系開発／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 電子線検査装置の電子光学系開発業務。
- 半導体の微細化に伴い、マスク検査及びウェハの検査に置いても、高分解能で高速の検査装置が必要となります。電子線検査装置は従来の検査装置よりも高感度の検査が可能となります。その検査装置の電子光学系開発業務です。
【派遣】電子光学系制御電気回路開発／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 電子線検査装置の電子線光学系制御電気回路開発業務。
- 半導体の微細化に伴い、マスク検査及びウェハの検査に置いても、高分解能で高速の検査装置が必要となります。電子線検査装置は従来の検査装置よりも高感度の検査が可能となります。その検査装置の電気回路設計業務です。
【派遣】半導体製造装置のEOL対応／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 電子ビームマスク描画装置（EBM）のうち、従来号機のユニット・パーツEOLへの対応およびアップデート等の検討/設計/取りまとめ/実行を行います。
【派遣】アライメントマーク検出機能開発・回路設計／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 電子ビームマスク描画装置に搭載する機能と要素部品の設計・開発業務。
- ・光もしくは電子ビームを使って、高精度にアライメントマークを検出する機能の設計と開発。
- ・ビーム校正に使用する校正用マークや高精度、低ノイズの電子線検出回路の設計と開発。
【派遣】半導体製造装置の精度評価／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 先端メトロロジー装置を使った、電子ビームマスク描画装置の精度評価。
- 半導体製造装置や使用している計測器にレジストなどを通じて、電子ビームマスク描画装置の精度評価を行います。
【派遣】半導体製造装置のハードシステム開発・設計／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 電子ビームマスク描画装置のデータパスにおけるハードウェアシステムの開発・設計業務。
【派遣】半導体製造装置のソフトウェア開発・設計／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 電子ビームマスク描画装置のソフトウェアシステムの開発・設計業務。
【派遣】半導体製造装置の設計開発・プロセス改善業務／新杉田
2021-06-29
【業務概要】
- 電子ビームマスク描画装置の設計開発とプロセス改善業務。
